PVD

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PVD的技术特点 PVD的特点
PVD的技术特点 PVD的特点

PVD的技术特点,PVD(物理气相沉积) 技术,为真空涂层开创了一个充满灿烂前景的新天地,之后在短短的二、三十年间PVD涂层技术得到迅猛发展,究其原因,是因为其在真空密封的腔体内成膜,几乎无任何环境污染问题,有利于环保;因为其能得...

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